等離子體增強MOCVD也就是大名鼎鼎的MOCVD(金屬有機物化學氣相沉積),針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有加熱的氣體管路、5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、950度樣品臺三個氣體環、PC全自動控制、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5x10-7Torr極限真空)，*的安全互鎖。
等離子體增強MOCVD技術特點：
臺式系統
5個帶獨立冷卻槽的起泡器
加熱的氣體管路
950°C樣品臺，2"晶圓片
3個氣體環
RF等離子源，帶淋浴頭氣體分布
工藝完成后N2自動沖洗
極限真空5x10-7Torr
250l/s的渦輪分子泵串接無油干泵
通過LabView軟件實現PC計算機全自動控制
菜單驅動，4級密碼訪問控制
完整的安全聯鎖
等離子體增強MOCVD配置：
獨立系統
14"不銹鋼立方體腔體
1次在8"樣品臺上處理1個6"晶圓片或在12"樣品臺上處理5片4"片子
加熱的氣體管路
RF等離子源，自動調諧
淋浴頭氣體分布
1100°C的旋轉樣品臺
產品分類
更新時間：2021-05-14 
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