進口掩模板清洗機是一款帶有小占地面積的理想設備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。提供了可控的化學試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統，可以zui大程度節省化學試劑的用量的。滴膠系統支持可編程的化學試劑混合能力，提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。
進口掩模板清洗機技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的zui大化支持的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。
進口掩模板清洗機通過聯合使用化學試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術，系統去除顆粒的能力得到進一步優化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升，從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去，而把回附的數量降到了zui低水平。從基片表面被去除。如果沒有使用幅流DI水的優勢，的靜態可循環兆聲清洗槽會有更大數量的顆?；馗?，并且因此需要更多的去除這些顆粒。
進口掩模板清洗機還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機械的方式去除無圖案基片上的污點和殘膠。DI水臭氧化的選配項提供了有機物的去除，而無須腐蝕性的化學試劑。我們的氫化DI水系統跟兆聲能量結合可以達到納米級的顆粒去除。根據不同的應用，某些選配項將會進一步提高設備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。
進口掩模板清洗機特點：
臺式系統
無損兆聲掩模版或晶圓片清洗及旋轉甩干
支持12”直徑的圓片或9”x9”方片
微處理機自動控制
IR紅外燈
進口掩模板清洗機應用：
帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
CMP處理后的晶圓片清洗
晶圓框架上的切粒芯片清洗
等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
帶保護膜的分劃版清洗
掩模版空白部位或接觸部位清洗
X射線及極紫外掩模版清洗
光學鏡頭清洗
ITO涂覆的顯示面板清洗
兆聲輔助的剝離工藝
產品分類
更新時間：2015-09-22 
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