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1)微波等離子去膠機理：在干法等離子去膠工藝中，氧是主要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機反應室中受高頻及微波能量作用，電離產生氧離子、游離態氧原子O*、氧分子和電子等混合的等離子體，其中具有強氧化能力的游離態氧原子（約占10-20%）在高頻電壓作用下與光刻膠膜反應：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反應后生成的CO2和H2O，隨即被抽走。2)微波等離子去膠機操作方法：將待去膠片插入石英舟并平行氣流方向，推入真空室兩電極間，抽真空到1.3Pa，通入適量氧氣，保...

熱真空試驗箱是目前環境試驗設備行業中zui熱門的試驗設備之一,而林頻儀器的設備也以的環境試驗設備和可靠性環境試驗解決方案成為行業中的*。但是再好的設備如果使用不當或缺少保養也會出現各種故障,今天就和各位來講講熱真空試驗箱在使用中有可能會出現哪些故障以及解決方案吧。熱真空試驗箱技術規格1、真空干燥箱是專為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質而設計的,工作時可使工作室內保持一定的真空度,并能夠向內部充入惰性氣體,特別是一些成分復雜的物品也能進行快速干燥,采用智能型數字溫度調節儀進行溫度...

熱真空試驗箱是在地面上模擬太空環境的環境模擬試驗設備。近幾年來,熱真空試驗設備在航天航空業產品的研制和定型中發揮了重要作用。熱真空試驗箱由于結構復雜,在運行中有時會出現一些異常現象,如果不能及時排除,將延長試驗周期,影響產品的研制工作。為此,我們對熱真空試驗箱的基本工作原理作一些簡要闡述,并介紹如何對熱真空試驗箱的一般故障進行分析判斷和排除。1、熱真空試驗箱工作原理下面以和熱真空試驗箱為例簡要介紹其工作過程。試驗箱由主泵渦輪分子泵、機械泵、預抽閥、主抽閥等組成真空機組,對真空...

光學鍍膜設備原理磁控濺射系統在陰極靶材的背后放置100～1000Gauss強力磁鐵,真空室充入011～10Pa壓力的惰性氣體(Ar),作為氣體放電的載體。光學鍍膜設備在高壓作用下Ar原子電離成為Ar+離子和電子,電子在加速飛向基片的過程中,受到垂直于電場的磁場影響,使電子產生偏轉,被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內,電子以擺線的方式沿著靶表面前進,在運動過程中不斷與Ar原子發生碰撞,電離出大量的Ar+離子，經過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,zui終落在基片、...

硅片清洗機物理清洗有三種方法：①刷洗或擦洗:可除去顆粒污染和大多數粘在片子上的薄膜。②高壓清洗：是用液體噴射片子表面，噴嘴的壓力高達幾百個大氣壓。高壓清洗靠噴射作用，片子不易產生劃痕和損傷。但高壓噴射會產生靜電作用，靠調節噴嘴到片子的距離、角度或加入防靜電劑加以避免。③超聲波清洗：超聲波聲能傳入溶液,靠氣蝕作用洗掉片子上的污染。但是,從有圖形的片子上除去小于1微米顆粒則比較困難。將頻率提高到超高頻頻段，清洗效果更好。硅片清洗機發展展望：伴隨著硅片的大直徑化,器件結構的超微小化...

微波等離子清洗機技術的zui大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。經濟的發展，人們的生活水平不斷提高，對消費品的質量要求也越來越高，等離子技術隨之逐步進入生活消費品生產行業中；另外，科技的不斷發展，各種技術問題的不斷提出，新材料的不斷涌現，越來越多的科研機構已認識到等離子技術的重要性，并投入大量資金進行技術攻關，等離...

光學鍍膜系統在這個階段里要設計擬定出光學系統原理圖，確定基本光學特性，使滿足給定的技術要求，即確定放大倍率或焦距、線視場或角視視場、數值孔徑或相對孔徑、共軛距、后工作距離光闌位置和外形尺寸等。因此，常把這個階段稱為外形尺寸計算。一般都按理想光學系統的理論和計算公式進行外形尺寸計算。在計算時一定要考慮機械結構和電氣系統，以防止在機構結構上無法實現。每項性能的確定一定要合理，過高要求會使設計結果復雜造成浪費，過低要求會使設計不符合要求，因此這一步驟慎重行事。無論是無機材料還是有機...

隨著NANO-MASTER*技術的ICP源的深入應用，對于大面積的基片提供均勻高品質的薄膜生長得以實現。到目前為止，NANO-MASTER的ALD系統可以支持在任意尺寸的襯底上的擴展，這給顯示和照明等領域帶來好消息。此外，NANO-MASTER同時具備粉末處理能力的擴展。這樣，NANO-MASTER系統已經可以支持在任意尺寸和任意形狀的固體上進行原子級生長。在應用選擇方面，我們支持熱ALD和PEALD系統的單獨應用，同時也支持ALE/ALD雙系統、IBE/ALD雙系統、ALD...